點擊圖片查看大圖詳細介紹：TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學方法殘氧儀是奧地利兩位科學家發明的非接觸式頂空分析儀，無損殘氧儀，專門應用在氣調包裝和制藥殘氧檢測行業，TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液，安剖瓶，抗生素，麻醉劑等藥品行業的殘氧檢測應用。
·???????? 光化學方法的頂空分析儀不僅可以測量氣體中的氧氣含量，還以測量液體中的氧氣含量。
·???????? 傳感器通過光電化學點的透明包裝
·???????? 光電化學點可作為粘合劑或打印點
·???????? 無需氣體抽出– 對于小氣量和液體非常適合
·???????? 光電化學點工廠校準
·???????? 自檢程序
·???????? 測試時間 < 3s
·???????? TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學方法殘氧儀
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性能 |
氣體 |
液體 |
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測試范圍 |
0.05 – 25% Vol.% |
0 – 10 (20)mg/L |
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準確度: |
± 0.02% oder < ±2% from value |
± 0.05mg/l oder < ±2% from value |
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分辨率: |
0.02% |
<0.02mg/l |
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響應時間: |
< 1 s |
Abh?ngig von der Schutzklasse |
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校準: |
20° / 25° / 37° |
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·???????? TecScan頂空分析儀?殘氧儀 光化學方法殘氧儀應用：
·???????? 制藥與生物技術
?食品工業/地圖包裝
細菌學.（病原體）微生物生長的檢測.生物化學和分子生物學的研究與開發
絕緣玻璃工業
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